(一)、工业设备

1、机床及有关技术、软件

序号 商品名称 描述 海关编码 类别

1 滚压成形机床 1．装有3个或3个以上压辊的(主动的或导向的)；

2．按照制造厂的技术规格可配备“数控”单元或计算机控制器的；

说明：包括那些只有一个用来使金属成形的压辊和两个用来支撑芯轴但不直接参加成形过程的辅助压辊的机床. 84639000.10 1

2 滚压成形机床用芯轴 转筒成形用的芯轴，用其制成内径在75毫米(3英寸)至400毫米(16英寸)之间的圆柱形转筒. 84669400.10 1

3 具有滚压功能的旋压成形机床 1．装有3个或3个以上压辊的(主动的或导向的)；和

2．按照制造厂的技术规格可配备“数控”单元或计算机控制器的；

说明：包括那些只有一个用来使金属成形的压辊和两个用来支撑芯轴但不直接参加成形过程的辅助压辊的机床. 84639000.20 1

4 具有滚压功能的旋压成形机床用芯轴 转筒成形用的芯轴，用其制成内径在75毫米(3英寸)至400毫米(16英寸)之间的圆柱形转筒. 84669400.20 1

5 用于切削或切割金属、陶瓷或复合材料，根据制造厂的技术说明书，可以配备沿2个或更多个轴同时进行“成形控制”的电子装置的车床 对于加工件大于直径35毫米的车床，“定位精度”在采取了所有补偿手段后沿任一直线坐标可达到优于0.006毫米(总定位精度)。

说明：不包括仅加工贯穿进给的棒料，棒料最大直径等于或小于42毫米，并且无固定卡盘的棒料车床。车床可对直径小于42毫米的加工零件进行钻、铣加工。 　 2

6 用于切削或切割金属、陶瓷或复合材料，根据制造厂的技术说明书，可以配备沿2个或更多个轴同时进行“成形控制”的电子装置的铣床

这些铣床具有下述任何一种特性：

（1）“定位精度”在采取了所有补偿手段后沿任一直线座标可达到优于0. 006毫米(总定位精度)；或

（2）有2个或更多个成形旋转轴。

说明：本条目不管制具有下述特性的铣床：

A. x轴行程大于2米；和

B. 沿x轴的总“定位精度”劣于0. 030毫米。 　 2

7 用于切削或切割金属、陶瓷或复合材料，根据制造厂的技术说明书，可以配备沿2个或更多个轴同时进行“成形控制”的电子装置的磨床

这些磨床具有下述任何一种特性：

（1）“定位精度”在采取了所有补偿手段后沿任一直线坐标可达到优于0. 004毫米(总定位精度)；或

（2）有2个或更多个成形旋转轴。

说明：不包括下列磨床：

A. 具有下列所有特征的外圆、内圆和内外圆磨床：

--限于磨圆柱面;

--最大工件外径或长度为150毫米；

--能同时调整进行“成形控制”的轴不超过2个；和

--无成形 c轴。

B. 仅有x、y、c和 a轴的坐标磨床，其中c轴用于保持磨轮垂直于工件表面，配备a轴是为了磨筒形凸轮。

C. 带有为生产工具和刀具专门设计的软件的工具磨床或刀具磨床。

D. 曲轴磨床或凸轮轴磨床。 　 2

8 用于切削或切割金属、陶瓷或复合材料，根据制造厂的技术说明书，可以配备沿2个或更多个轴同时进行“成形控制”的电子装置的无线型放电加工机床 具有2个或更多个成形旋转轴并能同时调整进行“成形控制”。 　 2

9 为滚压成形机床和具有滚压功能的旋压成形机床和芯轴专门设计的软件 　 　 2

10 为“研制”、“生产”或“使用”核两用品及相关技术出口管制清单第一部分的“数控”单元、“数控”机床而专门设计或修改的软件。 说明:

（1）不管是单独出口的还是装在“数控”单元或任何电子装置或系统中的软件都要受到管制。

（2）控制单元或机床的制造厂专门为操作非受控机床而设计或修改的软件不受管制。 　 2

11 供电子装置或系统的任一组合使用的软件 使该装置起“数控”单元的作用，从而能控制5个或更多个能同时调整进行“成形控制”的内插轴。

说明:

（1）不管是单独出口的还是装在“数控”单元或任何电子装置或系统中的软件都要受到管制。

（2）控制单元或机床的制造厂专门为操作非受控机床而设计或修改的软件不受管制。 　 2

2、尺寸检测仪、装置或系统，以及为此专门设计的软件：

12 计算机控制的尺寸检测仪或数控的尺寸检测机： 具有下述两种特性的计算机控制的尺寸检测仪或数控的尺寸检测机：

1．有2个或更多个轴；和

2．使用“精度”优于0.2微米的探头检测时，一维长度的“测量误差”等于或小于(1.25+L/1000)微米(L是所测长度，单位：毫米) 　 2

13 长度测量仪 具有下述任何一种特性的长度测量仪：

（1）非接触型测量系统，测量范围不超过0.2毫米时，其“分辨率”等于或优于0.3微米；

（3）具有下述两种特性的线性可变差动变压器系统：

A. 测量范围不超过5毫米时，其“线性度”等于或优于0.2%; 和

B. 在标准环境试验室温度变化为± 1K时，每天漂移量等于或小于0.2%; 或

（4）具有下述两种特性的测量系统：

A. 装有“激光器”；

B. 在温度变化为± 1K的标准温度和标准压力下，保持至少13小时：

全量程的“分辨率”为0.2微米或更高;和

“测量误差”等于或小于 (0.2 +L/2001) 微米(L是所测长度，单位：毫米)；以下除外：用干涉仪系统测量，无闭环或开环反馈，装有“激光器”，用以测量机床、尺寸检验仪或相似设备的滑板运动误差 　 2

14 角度测量仪 其“角位偏差”等于或小于0.00025度。

说明：不管制诸如自动准直仪之类的光学仪器，例如使用平行光检测反射镜角位移的自动准直仪。 　 2

15 检查半壳件的线－角度位移的系统 具有下述两种特性的同时检查半壳件的线－角度位移的系统：

1、沿任一轴向线度的“测量误差”，每毫米等于或小于3. 6微米；和

2．“角位偏差”等于或小于0.03度。 　 2

16 为尺寸检测仪、装置或系统专门设计的软件 为核两用品及相关技术出口管制清单第一部分尺寸检测仪、装置或系统专门设计的软件（包括用于同时测量壁厚和轮廓的软件） 　 2

17 “机器人”或“末端操纵装置” （一）按照国家安全标准专门设计，能用于处理高能炸药(例如，满足高能炸药电气法规标称值)；或

（二）专门设计或定为抗辐射的，能经受大于5×104戈瑞(硅) [5×106拉德(硅)]辐射而不会降低使用性能 84795090.10 1

18 为“机器人”或“末端操纵装置”专门设计的控制器 为核两用品及相关技术出口管制清单第一部分所述的“机器人”或“末端操纵装置”专门设计的控制器 　 2

19 为“机器人”或“末端操纵装置”专门设计的软件 为核两用品及相关技术出口管制清单第一部分所述的“机器人”或“末端操纵装置”专门设计的软件 　 2

3、振动试验系统、设备、部件及其软件

20 使用反馈或闭环控制技术和数控装置的电动式振动试验系统 能在20赫兹至2000赫兹之间产生10克均方根或更大的振动，并施加50千牛(11250磅)(“空台”测量)或更大的力。 　 2

21 数字控制器 装有为振动试验专门设计的软件，实时频宽大于5千赫，同“使用反馈或闭环控制技术和数控装置的电动式振动试验系统”所述的受控系统一起使用。 　 2

22 振动启动器（振动装置） 装有或不装有辅助放大器，能施加50千牛(11250磅)(“空台”测量)或更大的力，可用于“使用反馈或闭环控制技术和数控装置的电动式振动试验系统”所述的受控系统。 　 2

23 试验部件支承结构和电子学装置 用来把多台振动装置联成一完整的振动器系统，以便能提供50千牛(“空台”测量)或更大的有效合力，可用于“使用反馈或闭环控制技术和数控装置的电动式振动试验系统”所述的受控系统。 　 2

24 受控电子学装置专门设计的软件 同“使用反馈或闭环控制技术和数控装置的电动式振动试验系统”所述的受控系统一起使用或为“试验部件支承结构和电子学装置”所述的受控电子学装置专门设计的软件 　 2

4、真空炉、受控气氛冶金熔化炉和铸造用炉；专门配置的计算机控制系统和监测系统以及为此专门设计的软件

25 电弧重熔炉和铸造用炉 容量在1000-20000立方厘米之间，使用自耗电极，能在1700℃以上的熔化温度工作 85143000.20 1

26 电子束熔化炉 功率≥50千瓦，能在>1200℃的熔化温度工作 85143000.30 1

27 等离子体雾化和熔化炉 功率≥50千瓦，能在>1200℃的熔化温度工作 85143000.40 1

28 为真空炉、受控气氛冶金熔化炉和铸造用炉专门配置的计算机控制系统和监测系统 为核两用品及相关技术出口管制清单所述的真空炉、受控气氛冶金熔化炉和铸造用炉专门配置的计算机控制系统和监测系统 　 2

29 为真空炉、受控气氛冶金熔化炉和铸造用炉专门配置计算机控制系统和监测系统专门设计的软件 为核两用品及相关技术出口管制清单所述的真空炉、受控气氛冶金熔化炉和铸造用炉专门配置计算机控制系统和监测系统专门设计的软件 　 2

30 真空感应炉或受控环境感应炉 工作温度〉850℃，感应线圈直径≤600mm，设计输入功率≥5千瓦 85142000.10 1

31 电源 真空感应炉或受控环境感应炉用电源，额定输出功率≥5千瓦 85044090.50 1

32 等静压压力机 最大工作压力能够达到69兆帕或更大并具有内径超过152毫米腔式的“等静压压力机” 　 2

33 为等静压压力机专门设计的模具及模型 为核两用品及相关技术出口管制清单所述的等静压压力机专门设计的模具及模型 　 2

34 为等静压压力机专门设计的控制器 为核两用品及相关技术出口管制清单所述的等静压压力机专门设计的控制器 　 2

35 为等静压压力机专门设计的控制器专门设计的软件 为核两用品及相关技术出口管制清单所述的等静压压力机专门设计的控制器专门设计的软件 　 2

（二）、材料

36 铝合金 在293K(20摄氏度)时的极限抗拉强度能达到460兆帕(0.46×109

牛顿／平方米)或更大，呈管状或柱形实心体(包括锻件)，外径超过75毫米(3英寸)。

技术说明：所述的“能达到”包括未经热处理的或经热处理的铝合金在内。 　 2

37 铍金属 含50%以上铍(按重量计)的铍合金，铍的化合物，以及除下述制品以外的铍制品：

（一）X射线机或钻孔测井装置的金属窗；

（二）专门为电子部件设计的或作为电子线路基片的氧化铍产品或半成品；

（三）绿宝石或海蓝宝石形式的绿柱石(铍和铝的硅化物)。

技术说明：本清单包括上述铍的废物和废料。 　 2

38 高纯(99.99％或更高)铋，其含银量低于十万分之一 　 　 2

39 硼-10同位素占硼总含量20%以上(按重量计)的硼及其化合物、混合物和含硼材料 　 28459000.20 1

40 钙(高纯度) 金属杂质(除镁外)含量<1‰(按重量计)，硼含量小于十万分之一。 28051200.10 1

41 三氟化氯 　 28129000.10 1

42 容积在150毫升至8升之间、用纯度为98％或更高的下述任何一种材料制造或作涂层的坩埚 容积在150毫升至8升之间、用纯度为99％或更高的下述任何一种材料制造或作涂层的坩埚：

钙；

锆酸钙(偏锆酸盐)；

硫化铈；

氧化铒；

氧化铪；

氧化镁；

氮化铌－钛－钨合金(约50％铌、30％钛和21％钨)；

氧化钇；

氧化锆。 　 2

43 容积在50毫升至2升之间、用纯度为99.9％或更高的钽制造的坩埚 　 　 2

44 容积在50毫升至2升之间、用纯度为98％或更高的钽制造的坩埚 　 　 2

45 芳族聚酰氨纤维或纤丝材料 碳或其“比模量”为12.7×106米或更大或“比抗拉强度”为23.5×104米或更大的芳族聚酰氨纤维或纤丝材料，含有0.26％(重量)或更多酯基纤维表面改性剂的除外 　 2

46 玻璃纤维或纤丝材料 其“比模量”为3.18×106米或更大和“比抗拉强度”为7.62×105米或更大的玻璃纤维或纤丝材料 　 2

47 用碳或玻璃纤维或纤丝材料制成并浸渍了热固性树脂的连续的细线、粗纱、纱或宽度不超过15毫米的带(预浸料坯)； 用核两用品及相关技术出口管制清单所述碳或玻璃纤维或纤丝材料制成并浸渍了热固性树脂的连续的细线、粗纱、纱或宽度不超过16毫米的带(预浸料坯)；

说明：树脂构成了复合材料的基体。 　 2

48 碳纤维浸渍树脂材料制造的管状复合结构。 内径在75毫米(3英寸)至400毫米(16英寸)之间、用任何一种上述第45项所述的纤维或纤丝材料或上述第48项所述碳纤维浸渍树脂材料制造的管状复合结构。 　 2

49 金属铪 　 　 2

50 铪合金 　 　 2

51 铪含量超过60％(按重量计)的铪化合物及铪制品 　 　 2

52 富集锂－6同位素及其合金、化合物或混合物 “富集锂－6同位素”即锂－6同位素富集度大于7.5％(按原子数计)。 28459000.30 1

53 含有上述第52项所述任何物质的产品或装置（不包括热释光剂量计）。 　 　 2

54 镁(高纯度) 金属杂质(除钙外)含量少于万分之二(按重量计)，含硼量少于十万分之一。 　 2

55 马氏体时效钢 在293K(20摄氏度)下极限抗拉强度能达到2050兆帕(2.050×109牛顿／平方米)(300000磅／平方英寸)或更大的马氏体时效钢，但不包括线性尺寸小于76毫米的马氏体时效钢。 　 2

56 镭－226及其化合物 　 28444010.10 1

57 含镭－226的混合物 　 　 2

58 含有镭－226、镭－226化合物或含镭－226的混合物的任何物质的产品或装置 含有镭－226、镭－226化合物或含镭－227的混合物的任何物质的产品或装置

不包括：

（一）医用施镭器；

（二）含有不超过0.37吉贝可(10毫居)任何形式镭－227的产品或装置。 　 2

59 钛合金管 在293K(20摄氏度)下极限抗拉强度能达到900兆帕(0. 9×109牛顿/平方米)，外径＞75mm 81089040.10 1

60 钛合金实心圆柱体(包括锻件) 在293K(20摄氏度)下极限抗拉强度能达到900兆帕(0. 9×109牛顿/平方米)(130500磅/平方英寸)或更大的钛合金呈管状或实心圆柱体(包括锻件), 外径超过75毫米(3英寸) 81089010.10 1

61 钨制部件，碳化钨或重量超过20千克、内径大于100毫米(4英寸)小于300毫米(12英寸)的空心圆柱形对称体(包括圆柱体扇形段)的钨合金(含钨量超过90％)； 钨制部件，碳化钨或重量超过20千克、内径大于100毫米(4英寸)小于300毫米(12英寸)的空心圆柱形对称体(包括圆柱体扇形段)的钨合金(含钨量超过91％)；

不包括为配重或

g 射线准直仪专门设计的钨部件。 　 2

62 铪与锆含量之比小于500分之一(按重量计)的金属锆 　 　 2

63 含50％以上锆(按重量计)的合金，化合物，及其制品 含50％以上锆(按重量计)的合金，化合物，及其制品，但不包括厚度不超过0.1毫米(0.005英寸)的锆箔。

技术说明：此条目管制适用于含上述各种锆的废物和废料。 　 2

64 镍纯度为99. 0％或更高, 平均粒度按标准测量小于10微米的粉末 镍纯度为99. 0％或更高, 平均粒度按标准测量小于11微米的粉末; 不包括细丝状镍粉； 75040010 1

65 由上述64项管制的材料生产的多孔镍金属 由上述64项管制的材料生产的多孔镍金属；不包括每块不超过1001平方厘米的单孔镍金属板。 　 2

（三）、同位素分离设备和部件

66 每小时产250克以上氟的电解槽 　 　 2

67 装配气体离心机转筒管件、挡板和端盖的转筒装配设备。这类设备包括精密芯轴、夹钳和缩机具 　 　 2

68 使气体离心机转筒管件对准共用轴的转筒矫直设备 通常是由连接计算机的精密测量探头组成，该计算机随后控制诸如用于对准转筒管件的气动活塞的动作。 　 2

69 生产单曲面波纹管用的波纹管成形芯轴和模具 波纹管是用高强度铝合金、马氏体时效钢或高强度纤维材料制造，波纹管的尺寸如下：

(1)．内径为75毫米(3英寸)至400毫米(16英寸)；

(2)．长度为12. 7毫米(0. 5英寸)或更长；和

(3)．单曲面深度超过2毫米(0. 08英寸)。 　 2

70 用于长度为600毫米或更长的柔性转筒的平衡并具有如下特性的离心平衡机 用于长度为601毫米或更长的柔性转筒的平衡并具有如下特性的离心平衡机：

1．摆幅或轴颈直径为76毫米或更大；

2.质量容量从0.9至23千克(2至51磅);和

3．平衡的旋转速度能够超过5001转／分。 　 2

71 用于空心圆柱形转筒部件的平衡并具有如下特性的离心平衡机 用于空心圆柱形转筒部件的平衡并具有如下特性的离心平衡机：

轴颈直径为76毫米或更大;

质量容量从0.9至23千克(2至51磅)；

通过平衡补偿能使剩余的不平衡仅为每个平面0. 011千克毫米/千克或更小；和皮带传动型。 　 2

72 绕线机 其定位、缠绕和卷绕纤维的动作可在2个或更多个轴线上进行调节和编制程序，专门设计用于制造纤维和纤丝材料的复合结构或铺层制品，并能够卷绕直径在75毫米(3英寸)至400毫米(16英寸)之间、长度为600毫米（24英寸）或更长的圆柱形转筒 84798990.60 1

73 调节和编程控制器 专门设计用于制造纤维和纤丝材料的复合结构或铺层制品，并能够卷绕直径在75毫米(3英寸)至400毫米(16英寸)之间、长度为600毫米（24英寸）或更长的圆柱形转筒绕线机的调节和编程控制器 85371010.20 1

74 上述第72项绕线机的精密芯轴 　 　 2

75 为上述72项所述绕线机专门设计的软件 　 　 2

76 频率变换器(亦就是通常所称的变频器或逆变器) 具有下述特性：

（一）能提供40瓦特或更高功率的多相输出；

（二）能在600至2000赫兹频率范围内工作；

（三）总的谐波畸变低于10％；和

（四）频率控制精度优于0.1％。

不包括专门为“电动机定子”设计或配备的并具有上述（二）和（四）特性，总谐波畸变低于2％和效率超过80％的变频机。

85044090.40 1

77 发电机 （一）能提供40瓦特或更高功率的多相输出；

（二）能在600至2000赫兹频率范围内工作；

（三）总的谐波畸变低于10％；和

（四）频率控制精度优于0. 1％。不包括专门为“电动机定子”设计或配备的并具有上述（二）和（四）特性，总谐波畸变低于2％和效率超过80％的变频机。 85015100.10 1

78 铜蒸气激光器 平均输出功率≥40瓦特、工作波长500纳米—600纳米 90132000.70 1

79 氩离子激光器 平均输出功率≥40瓦特、工作波长400纳米—515纳米 90132000.30 1

80 掺钕激光器(而不是玻璃激光器) (1)．具有1000纳米至1100纳米的输出波长 ，采用脉冲激发和 Q - 开关，其脉冲宽度等于或大于1纳秒，并具有下述任何一种特性：

（A）单横模输出，平均输出功率超过40瓦特；

（B）多横模输出，平均输出功率超过50瓦特；

(2)．工作波长在1000纳米至1100纳米之间，倍频后，输出波长在500纳米至550纳米之间，倍频(新波长)平均功率超过40瓦特 　 2

81 可调脉冲单模染料振荡器 平均输出功率超过l瓦特，重复率超过1千赫，脉冲宽度小于100纳秒，波长在300纳米至800纳米之间 　 2

82 可调脉冲染料激光放大器和振荡器(不包括单模振荡器) 平均输出功率超过30瓦特，重复率超过1千赫兹，脉冲宽度小于100纳秒，波长在300纳米至800纳米之间 　 2

83 紫翠玉激光器 带宽≤0.005纳米，重复率〉125赫兹，平均输出功率〉30瓦特，工作波长720纳米—800纳米 90132000.40 1

84 脉冲二氧化碳激光器 重复率〉250赫兹，平均输出功率〉500瓦特，脉冲宽度<200纳秒，工作波长9000纳米—11000纳米 90132000.50 1

85 脉冲受激准分子激光器(XeF、XeCl和KrF) 重复率〉250赫兹，平均输出功率〉500瓦特，工作波长240纳米—360纳米 90132000.60 1

86 仲氢喇曼移相器 设计输出波长为16微米，重复率大于250赫兹 　 2

87 测量230原子质量单位或更大的离子, 且分辨率高于2/230的质谱仪 包括：

（一）电感耦合等离子体质谱仪；

（二）辉光放电质谱仪；

（三）热电离质谱仪；

（四）电子轰击质谱仪，其源室是用耐UF6的材料制造，或内衬或涂复这种材料；

（五）下述两种分子束质谱仪：

1．源室是用不锈钢或钼制造，或内衬或涂复这种材料，并且冷阱能冷却至193K(-80摄氏度)或更低；或

2．源室是用耐UF6的材料制造，或内衬或涂复这种材料；或

（六）配备微量氟离子源的质谱仪,设计用于锕系元素或锕系氟化物。

不包括专门设计或制造的磁质谱仪或四极质谱仪，这些质谱仪能够从UF6气流中获取供料、产品或尾料的“在线”样品，并具有下述特性：

分辨本领大于320原子质量单位；

离子源是用镍铬合金和蒙乃尔(镍铜)合金制造的，或内衬这种材料，或涂镍；

电子轰击电离源；

具有适用于同位素分析的收集器系统。 90278019.20 1

88 测量230原子质量单位或更大的离子, 且分辨率高于2/230的质谱仪用的离子源 　 　 2

89 压力传感器 能测量在0-13千帕范围内任一绝对压力，并配备用镍、镍含量大于60％(以重量计)的镍合金、铝或铝合金制造或保护的压敏元件：

（一）测压小于13千帕(满标度)、精度高于满标度的±l％的传感器；

（二）测压13千帕或高于13千帕(满标度)、精度高于±l30帕斯卡的传感器。

技术说明：

1．压力传感器是把压力测量结果转变为电信号的装置。

2．为本清单目的，“精度”包括常温下非线性度、滞后量和再现性。 　 2

90 测压小于13千帕(满标度)、精度高于满标度的± l％的传感器 　 　 2

91 测压13千帕或高于13千帕(满标度)、精度高于± l30帕斯卡的传感器。 　 　 2

92 阀门 标称尺寸≥5毫米的用波纹管密封，以铝、铝合金、镍或含镍量≥60％镍合金制造，或内衬 84818010.60 1

93 超导螺线电磁体 （一）能产生超过2个泰斯拉(20千高斯)的磁场；

（二）长径比(即长度除以内径)超过2；

（三）内径超过300毫米;和

（四）在内空间中心的50％空间内，磁场均匀度优于1％。 85059000.10 1

94 真空泵 抽气口尺寸≥38厘米，抽气速度≥15000升／秒，并能产生<10-4托的极限真空度。 84141000.20 1

95 直流高功率电源 能在8小时内连续产生100伏特或更高的电压，输出电流为500安培或更强，电流或电压稳定度优于0.1%。 85044019.20 1

96 高压直流电源 能在8小时内连续产生20000伏特或更高的电压， 输出电流为1安培或更强， 电流或电压稳定度优于0.2％。 85044019.30 1

97 电磁同位素分离器 设计或配备一个或多个离子源，总的离子束电流≥50毫安 84012000 1

（四）、重水生产厂的有关设备

98 专用填料 用来从天然水中分离出重水，用磷青铜网制成(经过化学处理以提高其润湿性)，并设计用于真空蒸馏塔。 　 2

99 泵 用来循环液态氨中被稀释的或被浓缩的钾酰胺催化剂溶液，并具有下述所有特性：

气密的(即密封的)；

用于浓缩的钾酰胺溶液(1％或更高)，工作压力为1.5－60兆帕(15－600个大气压)；用于稀释的钾酰胺溶液(小于1％)，工作压力为20－60兆帕(200－600个大气压)；和容量超过8. 5立方米/小时(5立方英尺／分)。 　 2

100 水－硫化氢交换板式塔及其内接触器 板式塔用细晶粒碳钢制成，直径为1. 8米或更大，标准工作压力为2兆帕或更高。 　 2

101 氢－低温蒸馏塔 具有下述全部用途：

工作时内部温度≤-238℃(35K)；工作时内部压力为0. 5至5兆帕(5至50个大气压)； 用含硫量低的300系列细晶粒不锈钢或等效低温材料和与H2相容的材料制成；和 内径≥1米，有效长度≥5米。 84194090.10 1

102 氨合成塔或合成氨设备 其中合成气体(氮和氢)来自氨、氢高压交换塔，而合成氨返回到所述的塔里。 　 2

103 涡轮蒸发器或涡轮蒸发器－压缩机装置 工作时温由上述64项管制的材料生产的多孔镍金属度在35K以下，氢气通过量为每小时1000千克或更多。 　 2

（五）、内爆系统研制设备

104 闪光X射线发生器 峰值能量≥500千电子伏 90229090.20 1

105 脉冲电子加速器 峰值能量为500千电子伏或更高，但不包括作为非电子束或X射线辐射用(例如电子显微镜)和医用装置部件的加速器：

（一）加速器峰值电子能量为500千电子伏或更高，但低于25兆电子伏，品质因数(K)为0. 25或更高，这里 K定义为：K＝1.7×103V2. 65Q，

（二）加速器峰值电子能量为25兆电子伏或更高，峰值功率超过50兆瓦[峰值功率＝峰值电位(单位:伏) ×电子束峰值电流(单位:安培)]。 85431900.10 1

106 多级轻气炮 能够把弹丸加速至每秒2千米或更快。 2

107 线圈炮 能够把弹丸加速至每秒2千米或更快。 　 2

108 电磁炮 能够把弹丸加速至每秒2千米或更快。 　 2

109 电热炮 能够把弹丸加速至每秒2千米或更快。 　 2

110 除上述106-109项之外的，能够把弹丸加速至每秒2千米或更快的先进系统 　 　 2

111 分幅相机 记录速率超过每秒225000帧 90065990.10 1

112 条纹相机 书写速度超过每微秒0. 5毫米 90065990.30 1

113 电子条纹相机 时间分辨率为51纳秒或更小 90065990.40 1

114 电子条纹相机的条纹显像管 　 　 2

115 电子(或电子快门)分幅相机 帧曝光时间为51纳秒或更短 90065990.20 1

116 受上述115项管制的相机所用的分幅显像管和固态成像器件 包括：

近聚焦图像增强管，其光电阴极沉积在透明的导电膜上，以降低光电阴极薄片电阻；

门控硅增强靶视像管，在光电子撞击门控硅增强靶板极之前，有一个快速系统选通从光电阴极发出的光电子；

克耳盒或普克尔盒电光快门；或

专门为上述115项管制的相机设计的其他分幅像管和固态成像器件，其快速成像选通时间小于50纳秒。 　 2

　 流体力学试验专用仪表： 　 　 　

117 速度干涉仪(多普勒激光干涉仪等) 用于测量速度超过每秒1千米、持续时间间隔少于10微秒 　 2

118 锰铜压力计 压力超过100千巴 90262000.10 1

119 石英压力传感器 压力超过100千巴 　 2

（六）、炸药和有关设备

120 冷阴极管(包括气体弧光放电充气管和真空静电喷射管)，不管是否充了气体 其作用类似于火花隙，含有3个或更多的电极，并具有下述特性：

阳极峰值额定电压为2500伏特或更高;

阳极峰值额定电流为100安培或更强;

阳极延迟时间为10微秒或更短。 　 2

121 触发式火花隙 其阳极延迟时间为15微秒或更短，阳极峰值额定电流为500安培或更大。 　 2

122 具有快速开关功能的模件或组件： 具有如下特性并执行快速开关功能的模件或组件：

阳极峰值额定电压高于2001伏特；

阳极峰值额定电流为501安培或更大；和

接通时间为2微秒或更短。 　 2

123 具有如下特性的电容器： 具有如下特性的电容器： 　 2

　 额定电压大于1. 4千伏，储能大于10焦耳，电容大于0.5微法，以及串联电感小于51纳亨；或 额定电压大于1. 4千伏，储能大于10焦耳，电容大于0.5微法，以及串联电感小于52纳亨；或 　 　

　 额定电压大于750伏特，电容大于0. 25微法，串联电感小于11纳亨。 额定电压大于750伏特，电容大于0. 25微法，串联电感小于12纳亨。 　 　

124 爆炸桥 　 36030000.10 1

125 爆炸桥丝 　 36030000.20 1

126 冲击片 　 36030000.30 1

127 爆炸箔起爆器 　 36030000.40 1

128 使用单个或多个雷管的装置 使用单个或多个雷管的装置，该装置设计成可由单一的点火信号几乎同时(传遍炸药面到起爆的时间小于2.5微秒)起爆炸药面(其面积超过5000平方毫米).

上述雷管均利用一个小的导电体(例如桥、桥丝或箔)，当上升时间短的大电流电脉冲通过上述导电体时，使它爆炸而汽化。在非冲击片型雷管里，爆炸的导电体引起相接触的高级炸药如太安(季戊四醇四硝酸酯)化学爆轰。在冲击片型雷管里，导电体的爆炸蒸汽驱动“飞片”或“冲击片”飞过一个间隙，撞击炸药而引起化学爆轰。在某些设计中，冲击片是由磁力驱动。术语“爆炸箔”雷管，可以指“爆炸桥”雷管，或指“冲击片”型雷管。“起爆器”有时也被用来代替“雷管”。仅使用起药（如叠氮化铅）的雷管不受管制。 36030000.50 1

129 炸药雷管点火装置 用于引爆多个124-128项管制的雷管。 36030000.60 1

130 便携式、可移动或加固的模块式电脉冲发生器(脉冲源)(包括氙闪光灯激励器)： 具有如下特性的便携式、可移动或加固的模块式电脉冲发生器(脉冲源)(包括氙闪光灯激励器)：

能在16微秒时间内输出能量；

输出电流大于101安培；

在小于40欧姆负载上的上升时间小于10微秒(上升时间定义为：当电流通过电阻负载时，电流幅度由10％增加到91％时的时间间隔)；

密封在防尘罩内；

尺寸小于25.4厘米(11英寸)；

重量小于25千克(56磅)；

专用于宽温度范围(-50至101摄氏度)，或专用于宇航。 　 2

131 含有特定成分的高级炸药或物质或混合物 含有超过2% 成份的下述任何一种物质：

（一）(环)四亚甲基四硝胺；

（二）(环)三亚甲基三硝基胺；

（三）三氨基三硝基苯；或

（四）晶体密度大于1.8克/立方厘米、爆速超过8000米/秒的硝胺炸药。 36020010.10 1

132 含有特定成分的高级炸药或物质或混合物 含有超过2% 成份的下述任何一种物质：

（一）六硝基芪；或

（二）晶体密度大于1.8克/立方厘米、爆速超过8000米/秒的其他炸药。 36020090.10 1

133 (环)四亚甲基四硝胺 　 29213000.10 1

134 （环）三亚甲基三硝基胺 　 29213000.20 1

135 三氨基三硝基苯 　 29215900.10 1

136 六硝基芪 　 29042090.10 1

（七）、核试验设备和部件

137 光电倍增管 光电阴极面积大于20平方厘米，阳极脉冲上升时间小于1纳秒。 　 2

138 高速脉冲发生器 在小于55欧姆电阻负载上的输出电压大于6伏特，脉冲上升时间小于500皮秒(上升时间定义为电压幅度从10％增至90％时的时间间隔)。 　 2

（八）、其它

139 中子发生器系统，包括中子管 在无外真空系统条件下工作，并利用静电加速来诱发氚－氘核反应。 85431900.20 1

140 能用来为放化分离作业和热室提供的遥控机械手 能用来为放化分离作业和热室提供的遥控机械手,能贯穿0.6米以上的热室壁(“穿壁”作业)；或 能跨过壁厚为0.6米以上的热室顶(“跨顶”作业)。 84289000.10 1

141 高密度 (铅玻璃或其他材料)辐射屏蔽窗和专门为其设计的框架 冷区面积大于0. 09平方米、密度大于3克／立方厘米和厚度为100毫米或更厚 　 2

142 抗辐射电视摄像机 专门设计或经认定能抗5×104戈瑞(硅)[5×106拉德(硅)]以上辐射而又不会降低使用质量。 85253010.10 1

143 抗辐射镜头 专门设计或经认定能抗5×104戈瑞(硅)[5×106拉德(硅)]以上辐射而又不会降低使用质量. 90029090.10 1

144 其氚－氢原子比超过千分之一的氚、氚化物和氚的混合物，以及含有上述任一种物质的产品和装置。 其氚－氢原子比超过千分之一的氚、氚化物和氚的混合物，以及含有上述任一种物质的产品和装置。[不包括含氚（任何形态）量少于1.48×103吉贝可(41居里)的产品或装置。] 　 2

145 用于生产、回收、提取、浓缩或处理氚的设施或工厂 　 　 2

146 能够冷却到23K(-250摄氏度)或更低温度的氢或氦的致冷设备 其排热能力大于150瓦特。 　 2

147 氢同位素贮存系统和净化装置 使用金属氢化物作为贮存或净化介质。 　 2

148 载铂催化剂 为了从重水中回收氚或为了生产重水而专门设计或制备，用于加速氢和水之间的氢同位素交换反应。 　 2

149 氦-3或氦-3同位素富集的氦、含有氦-3的混合物和含有上述任何物质的产品或装置. 　 　 2

150 发射a粒子，其a半衰期为10天或10天以上但小于200年的放射性核素，含有a总活度为每千克1居里(37吉贝可/千克)或更大的任何这类放射性核素的化合物或混合物，以及含有上述任何物质的产品或装置 　 　 2

151 锂同位素分离用设施或工厂 　 　 2

152 专门用于锂汞齐的液－液交换填料塔 　 84012000 1

153 汞、锂汞齐泵 　 　 2

154 锂汞齐电解槽 　 85433000.10 1

155 浓缩氢氧化锂溶液用蒸发器 　 84012000 1

（九） 、临时管制物项